Profil
Der Spektralbereich der extrem ultravioletten Strahlung (Extrem-Ultraviolett, EUV oder XUV, 1 – 50 nm) kombiniert die Vorteile kleiner Wellenlänge mit starker Licht – Materie Wechselwirkung mit atomaren Resonanzen. Dies ermöglicht sowohl laterale als auch Tiefenauflösungen im Nanometerbereich mit elementspezifischen Kontrasten.
Am Lehr- und Forschungsgebiet Experimentalphysik des Extrem-Ultravioletts der RWTH Aachen EUV werden verschiedene Aspekte im Zusammenhang mit EUV Strahlung untersucht. Das Spektrum reicht von der Strahlungserzeugung und Charakterisierung über Wellenausbreitung und Wechselwirkung mit Materie bis zu den konkreten Anwendungen und deren Methodenentwicklung. Dabei stehen insbesondere zwei Bereiche im Vordergrund – hochbrillante Quellen und Interferenzlithographie. Die durchgeführte Forschung lässt sich in vier Aspekte fassen:
Laser unterstützte Gasentladung
Photoelektronen-Spektroskopie und -Mikroskopie
Die Arbeiten erfolgen in Kooperation mit dem Peter Grünberg Institut PGI des Forschungszentrums Jülich, speziell dem PGI-9: Halbleiter-Nanoelektronik (Professor Detlev Grützmacher), dem Fraunhofer-Institut für Lasertechnik in Aachen ILT und dem im Maschinenbau angesiedelten Lehrstuhl für Technologie Optischer Systeme TOS der RWTH Aachen (Professor Peter Loosen) und sind eingebettet in die Sektion JARA-FIT der Jülich-Aachen-Research Alliance. Außerdem nehmen die Arbeiten zur kontrollierten Herstellung von periodischen Nanostrukturen über große Flächen eine Querschnittsaufgabe im Sonderforschungsbereich SFB 912 „Nanoswitches – Resistively Switching Chalcogenides for Future Electronis – Structure, Kinetics, and Device Scalability“ zwischen der RWTH Aachen und Forschungszentrum Jülich ein.