Teaser: Meßtechnik
XMCD-Signal eines Pt/Co-Dünnschichtsystems

XMCD

Zur Aufnahme der Magnetisierung von magnetischen Schichten wird uunter anderem der irkularer, magentischer Röntgendichroismus verwendet, welcher an Absorbtionskanten besonders ausgeprägt ist. Messungen im EUV-Wellenlängenbereich, erlauben elementabhängige Abbildung an den Absorbtionskanten von gebräuchlichen Materialien wie Eisen, Cobalt oder Nickel.

Bild: FZ Jülich | Daniel Wilson

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Innenaufnahme Panthersetup

Reflektometer

Die PANTHER-Anlage erlaubt die Messung der spekularen Reflektivität einer Dünnschichtenprobe mit verschiedenen Wellenlängen und unter verschiedenen Einfallswinkeln um Parameter wie Dicke, Dichte usw. zu bestimmen.

Bild: RWTH EUV | Maksym Tryus

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Beleuchtungsbild

Scatterometrie

Mittels Scatterometrie lassen sich periodische Strukturen auf Oberflächen untersuchen. Die kurze Wellenlänge von EUV-Strahlung macht selbst Fehler in Oberflächenstruktur im Nanometerbereich sichtbar - auch bei normalerweise transparenten Materialien.

Bild: RWTH EUV | Aleksiy Maryasov

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Teaser: Bildgebung
Beugungsbild eines Pinholes

Linsenlose Bildgebung

Bildgebung mit Extremultravioletter Strahlung bietet gleichzeitig eine hohe räumliche Auflösung und einen starken Elementkontrast. Um die Zahl der teueren und ineffizienten Optiken zu vermeiden, forscht unsere Arbeitsgruppe zu dem Thema Linsenlose, kohärente Bildgebung (eng. Coherent Diffraction Imaging/ CDI).

Bild: RWTH EUV | Jan Bußmann

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Quelle

Mikroskopie

Mikroskopie mit weicher Röntgenstrahlung und EUV Licht bietet hohe Auflösung im Nanometer Bereich ohne Zerstörung/ Veränderung der Probe, wie es in der Elektronenmikroskope der Fall ist.

Bild: RWTH EUV | Larissa Juschkin

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Dunkelfeldbild

Dunkelfeldmikroskopie

Optiken für extremultraviolette Strahulung müssen vor und während ihrer Nutzung charakterisiert und geprüft werden. EUV-Dunkelfeldmikroskopie bietet die Möglichkeit Phasen- und Amplitudenfehler zu finden, welche anderen Untersuchungsverfahren versteckt bleiben.

Bild: RWTH EUV | Lukas Bahrenberg

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Weitere Forschungsgebiete
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EUV-Interferenzlithographie

Dieser Bereich beinhaltet Erzeugung kleiner Strukturen auf Basis der Interferenzlithografie.

Bild: RWTH EUV | Hyun-su Kim

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Laser unterstützte Gasentladung

Hier werden Konzepte der EUV-Strahlungserzeugung im Labormaßstab untersucht.

Bild: FZ Jülich | Jan Bußmann

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PEEM Aufnahme von GST mit EUV Licht

Photoelektronen- austrittsstudien

Photoelektronenmikroskopie erlaubt die Untersuchung der Struktur, der magentischen Eigenschaften, Zusammensetzung und Morphologie von Materie. Unsere hoch-intensive Plasma EUV-Quelle schließt die Lücke zwischen klassichen, laborbasierten UV-und Röntgenquellen.

Bild: FZ Jülich | Daniel Wilson

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